Възложен
Официално публично обявление
Elektronenstrahl-Lithographiesystem
- Възлагащ орган
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
- Местоположение
- Garching, Гepмaния
- Вид обявление
- can-standard
- Вид поръчка
- Доставки
- Процедура
- open
- Публикувано
- 23.10.2026 г.
- CPV категория
- 38000000 Лабораторно, оптично и прецизно оборудване (без стъклени изделия)
Описание
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
Прочетете това обявление на вашия език
Оригинален език: немски. Текстът по-горе е оригиналното обявление.
Няма наличен превод на това обявление на този език.
Преводът помага при четенето на обявлението. Той няма правна стойност: важи само оригиналното официално обявление.