Zadaná
Oficiální veřejné oznámení
Elektronenstrahl-Lithographiesystem
- Zadavatel
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
- Místo
- Garching, Německo
- Typ oznámení
- can-standard
- Typ zakázky
- Dodávky
- Řízení
- open
- Zveřejněno
- 23. 10. 2026
- Kategorie CPV
- 38000000 Laboratorní, optické a přesné přístroje a zařízení (mimo skel)
Popis
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
Přečtěte si toto oznámení ve svém jazyce
Původní jazyk: němčina. Text výše je původní oznámení.
Překlad tohoto oznámení do tohoto jazyka není k dispozici.
Překlad pomáhá s četbou oznámení. Nemá právní hodnotu: platí pouze původní oficiální oznámení.