Tildelt
Officiel offentlig bekendtgørelse
Elektronenstrahl-Lithographiesystem
- Ordregivende myndighed
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
- Placering
- Garching, Tyskland
- Bekendtgørelsestype
- can-standard
- Kontrakttype
- Varer
- Procedure
- open
- Offentliggjort
- 23. okt. 2026
- CPV-kategori
- 38000000 Laboratorieudstyr, optisk udstyr og præcisionsudstyr (ikke briller)
Beskrivelse
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
Læs denne bekendtgørelse på dit sprog
Originalsprog: tysk. Teksten ovenfor er den oprindelige bekendtgørelse.
Der findes ingen oversættelse af denne bekendtgørelse på dette sprog.
En oversættelse hjælper dig med at læse en bekendtgørelse. Den har ingen juridisk værdi: kun den oprindelige officielle bekendtgørelse gælder.