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Offizielle öffentliche Bekanntmachung
Elektronenstrahl-Lithographiesystem
- Öffentlicher Auftraggeber
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
- Ort
- Garching, Deutschland
- Art der Bekanntmachung
- can-standard
- Auftragsart
- Lieferleistungen
- Verfahren
- open
- Veröffentlicht
- 23.10.2026
- CPV-Kategorie
- 38000000 Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Beschreibung
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
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