Ανατέθηκε
Επίσημη δημόσια γνωστοποίηση
Elektronenstrahl-Lithographiesystem
- Αναθέτουσα αρχή
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
- Τοποθεσία
- Garching, Γερμανία
- Τύπος γνωστοποίησης
- can-standard
- Τύπος σύμβασης
- Αγαθά
- Διαδικασία
- open
- Δημοσιεύθηκε
- 23 Οκτ 2026
- Κατηγορία CPV
- 38000000 Εξοπλισμός εργαστηριακός, οπτικός και ακριβείας (εκτός από γυαλιά)
Περιγραφή
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
Διαβάστε αυτή την προκήρυξη στη γλώσσα σας
Αρχική γλώσσα: γερμανικά. Το παραπάνω κείμενο είναι η αρχική προκήρυξη.
Δεν υπάρχει μετάφραση αυτής της προκήρυξης σε αυτή τη γλώσσα.
Η μετάφραση βοηθά στην ανάγνωση μιας προκήρυξης. Δεν έχει νομική αξία: ισχύει μόνο η αρχική επίσημη προκήρυξη.