Adjudicada
Anuncio público oficial
Elektronenstrahl-Lithographiesystem
- Poder adjudicador
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
- Lugar
- Garching, Alemania
- Tipo de anuncio
- can-standard
- Tipo de contrato
- Suministros
- Procedimiento
- open
- Publicado
- 23 oct 2026
- Categoría CPV
- 38000000 Equipo de laboratorio, óptico y de precisión (excepto gafas)
Descripción
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
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