Ratkaistu
Virallinen julkinen ilmoitus
Elektronenstrahl-Lithographiesystem
- Hankintayksikkö
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
- Sijainti
- Garching, Saksa
- Ilmoituksen tyyppi
- can-standard
- Sopimustyyppi
- Tavarahankinnat
- Menettely
- open
- Julkaistu
- 23.10.2026
- CPV-luokka
- 38000000 Laboratoriolaitteet, optiset ja tarkkuuslaitteet (lukuun ottamatta silmälaseja)
Kuvaus
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
Lue tämä ilmoitus omalla kielelläsi
Alkuperäinen kieli: saksa. Yllä oleva teksti on alkuperäinen ilmoitus.
Tälle ilmoitukselle ei ole käännöstä tällä kielellä.
Käännös auttaa lukemaan ilmoituksen. Sillä ei ole oikeudellista arvoa: vain alkuperäinen virallinen ilmoitus on pätevä.