Dodijeljen
Službena javna obavijest
Elektronenstrahl-Lithographiesystem
- Javni naručitelj
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
- Lokacija
- Garching, Njemačka
- Vrsta obavijesti
- can-standard
- Vrsta ugovora
- Roba
- Postupak
- open
- Objavljeno
- 23. lis 2026.
- CPV kategorija
- 38000000 Laboratorijska, optička i precizna oprema (osim naočala)
Opis
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
Pročitajte ovu objavu na svom jeziku
Izvorni jezik: njemački. Tekst iznad izvorna je objava.
Prijevod ove objave na ovaj jezik nije dostupan.
Prijevod pomaže pri čitanju objave. Nema pravnu vrijednost: vrijedi samo izvorna službena objava.