Aggiudicato
Avviso pubblico ufficiale
Elektronenstrahl-Lithographiesystem
- Amministrazione aggiudicatrice
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
- Luogo
- Garching, Germania
- Tipo di avviso
- can-standard
- Tipo di appalto
- Forniture
- Procedura
- open
- Pubblicato
- 23 ott 2026
- Categoria CPV
- 38000000 Attrezzature da laboratorio, ottiche e di precisione (escluso vetri)
Descrizione
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
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