Piešķirts
Oficiāls publisks paziņojums
Elektronenstrahl-Lithographiesystem
- Līgumslēdzēja iestāde
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
- Atrašanās vieta
- Garching, Vācija
- Paziņojuma veids
- can-standard
- Līguma veids
- Piegādes
- Procedūra
- open
- Publicēts
- 2026. gada 23. okt.
- CPV kategorija
- 38000000 Laboratorijas, optiskās un precīzijas ierīces (izņemot brilles)
Apraksts
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
Lasiet šo paziņojumu savā valodā
Oriģinālvaloda: vācu valoda. Teksts augstāk ir oriģinālais paziņojums.
Šī paziņojuma tulkojums šajā valodā nav pieejams.
Tulkojums palīdz lasīt paziņojumu. Tam nav juridiska spēka: spēkā ir tikai oriģinālais oficiālais paziņojums.