Awarded
Official public notice
Elektronenstrahl-Lithographiesystem
- Contracting authority
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
- Location
- Garching, Germany
- Notice type
- can-standard
- Contract type
- Supplies
- Procedure
- open
- Published
- Oct 23, 2026
- CPV category
- 38000000 Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)
Description
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
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