Elektronenstrahl-Lithographiesystem
- Aanbestedende dienst
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
- Locatie
- Garching, Duitsland
- Type aankondiging
- can-standard
- Type opdracht
- Leveringen
- Procedure
- open
- Gepubliceerd
- 23 okt 2026
- CPV-categorie
- 38000000 Laboratoriuminstrumenten, optische en precisie-instrumenten (uitgezonderd brillen)
Beschrijving
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
Lees deze aankondiging in uw taal
Oorspronkelijke taal: Duits. De tekst hierboven is de oorspronkelijke aankondiging.
Er is geen vertaling van deze aankondiging in deze taal beschikbaar.
Een vertaling helpt bij het lezen van een aankondiging. Ze heeft geen juridische waarde: alleen de oorspronkelijke officiële aankondiging telt.