Atribuită Anunț public oficial

Elektronenstrahl-Lithographiesystem

Autoritate contractantă
Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
Locație
Garching, Germania
Tip de anunț
can-standard
Tip de contract
Produse
Procedură
open
Publicat
23 oct. 2026
Categorie CPV
38000000 Echipamente de laborator, optice şi de precizie (cu excepţia ochelarilor)

Descriere

Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.

Citiți acest anunț în limba dvs.

Limba originală: germană. Textul de mai sus este anunțul original.

Nu există o traducere a acestui anunț în această limbă.

O traducere ajută la citirea unui anunț. Nu are valoare juridică: contează doar anunțul oficial original.