Tilldelad
Officiellt offentligt meddelande
Elektronenstrahl-Lithographiesystem
- Upphandlande myndighet
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
- Plats
- Garching, Tyskland
- Typ av meddelande
- can-standard
- Kontraktstyp
- Varor
- Förfarande
- open
- Publicerad
- 23 okt. 2026
- CPV-kategori
- 38000000 Laboratorieutrustning, optisk utrustning och precisionsutrustning (exkl. glas)
Beskrivning
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
Läs den här annonsen på ditt språk
Originalspråk: tyska. Texten ovan är originalannonsen.
Det finns ingen översättning av annonsen på det här språket.
En översättning hjälper dig att läsa en annons. Den har inget rättsligt värde: endast den officiella originalannonsen gäller.