Sõlmitud
Ametlik avalik teade
Elektronenstrahl-Lithographiesystem
- Hankija
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
- Asukoht
- Garching, Saksamaa
- Teate liik
- can-standard
- Lepingu liik
- Asjad
- Menetlus
- open
- Avaldatud
- 23. okt 2026
- CPV-kategooria
- 38000000 Laboriseadmed, optika- ja täppisinstrumendid (v.a klaasid)
Kirjeldus
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
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