Attribué
Avis public officiel
Elektronenstrahl-Lithographiesystem
- Pouvoir adjudicateur
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
- Lieu
- Garching, Allemagne
- Type d'avis
- can-standard
- Type de marché
- Fournitures
- Procédure
- open
- Publié le
- 23 oct. 2026
- Catégorie CPV
- 38000000 Équipements de laboratoire, d'optique et de précision (excepté les lunettes)
Description
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
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