Odaítélt
Hivatalos nyilvános hirdetmény
Elektronenstrahl-Lithographiesystem
- Ajánlatkérő szerv
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
- Helyszín
- Garching, Németország
- Hirdetmény típusa
- can-standard
- Szerződés típusa
- Árubeszerzés
- Eljárás
- open
- Közzétéve
- 2026. okt. 23.
- CPV-kategória
- 38000000 Laboratóriumi, optikai és precíziós felszerelések (kivéve szemüvegek)
Leírás
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
Olvassa el ezt a hirdetményt a saját nyelvén
Eredeti nyelv: német. A fenti szöveg az eredeti hirdetmény.
Ehhez a hirdetményhez nem érhető el fordítás ezen a nyelven.
A fordítás segít a hirdetmény olvasásában. Nincs jogi értéke: csak az eredeti hivatalos hirdetmény az irányadó.