Mogħtija
Avviż pubbliku uffiċjali
Elektronenstrahl-Lithographiesystem
- Awtorità kontraenti
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
- Post
- Garching, Il-Ġermanja
- Tip ta' avviż
- can-standard
- Tip ta' kuntratt
- Provvisti
- Proċedura
- open
- Ippubblikat
- 23 Ott 2026
- Kategorija CPV
- 38000000 Tagħmir tal-laboratorju, ottiku u ta' preċiżjoni (minbarra nuċċalijiet)
Deskrizzjoni
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
Aqra dan l-avviż bil-lingwa tiegħek
Lingwa oriġinali: Ġermaniż. It-test ta' hawn fuq huwa l-avviż oriġinali.
Ma hemm l-ebda traduzzjoni ta' dan l-avviż b'din il-lingwa.
Traduzzjoni tgħinek taqra avviż. M'għandha l-ebda valur legali: l-avviż uffiċjali oriġinali biss jgħodd.