Udzielony
Oficjalne ogłoszenie publiczne
Elektronenstrahl-Lithographiesystem
- Zamawiający
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
- Lokalizacja
- Garching, Niemcy
- Rodzaj ogłoszenia
- can-standard
- Rodzaj zamówienia
- Dostawy
- Procedura
- open
- Opublikowano
- 23 paź 2026
- Kategoria CPV
- 38000000 Sprzęt laboratoryjny, optyczny i precyzyjny (z wyjątkiem szklanego)
Opis
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
Przeczytaj to ogłoszenie w swoim języku
Język oryginału: niemiecki. Powyższy tekst to oryginalne ogłoszenie.
Brak tłumaczenia tego ogłoszenia na ten język.
Tłumaczenie ułatwia czytanie ogłoszenia. Nie ma mocy prawnej: liczy się tylko oryginalne ogłoszenie oficjalne.