Adjudicado
Anúncio público oficial
Elektronenstrahl-Lithographiesystem
- Autoridade adjudicante
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
- Localização
- Garching, Alemanha
- Tipo de anúncio
- can-standard
- Tipo de contrato
- Fornecimentos
- Procedimento
- open
- Publicado
- 23 de out. de 2026
- Categoria CPV
- 38000000 Equipamento laboratorial, óptico e de precisão (exc. óculos)
Descrição
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
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