Zadaná
Oficiálne verejné oznámenie
Elektronenstrahl-Lithographiesystem
- Verejný obstarávateľ
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
- Miesto
- Garching, Nemecko
- Typ oznámenia
- can-standard
- Typ zákazky
- Tovary
- Postup
- open
- Zverejnené
- 23. 10. 2026
- Kategória CPV
- 38000000 Laboratórne, optické a presné prístroje a vybavenie (s výnimkou skiel)
Opis
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
Prečítajte si toto oznámenie vo svojom jazyku
Pôvodný jazyk: nemčina. Text vyššie je pôvodné oznámenie.
Preklad tohto oznámenia do tohto jazyka nie je k dispozícii.
Preklad pomáha pri čítaní oznámenia. Nemá právnu hodnotu: platí iba pôvodné oficiálne oznámenie.