Oddan
Uradno javno obvestilo
Elektronenstrahl-Lithographiesystem
- Naročnik
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Garching)
- Lokacija
- Garching, Nemčija
- Vrsta obvestila
- can-standard
- Vrsta naročila
- Blago
- Postopek
- open
- Objavljeno
- 23. okt. 2026
- Kategorija CPV
- 38000000 Laboratorijska, optična in precizna oprema (razen očal)
Opis
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
Preberite to objavo v svojem jeziku
Izvirni jezik: nemščina. Zgornje besedilo je izvirna objava.
Prevod te objave v ta jezik ni na voljo.
Prevod pomaga pri branju objave. Nima pravne veljave: velja samo izvirna uradna objava.